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Thin Film Deposition & Thermal Treatment

Thin film deposition Furnace


[manual]		 Tubular Electrical Resistance Furnace
  • 常用最高温度1300℃（シリコニットヒーター）
  • 雰囲気制御（真空，ガス）（マスフローコントローラー）
  • レーザーアブレーション用窓
  • レーザーアブレーション用ターゲット回転機構


[manual]		 Tubular Electrical Resistance Furnace
  • 常用最高温度1300℃（シリコニットヒーター）
  • 簡易雰囲気制御


[manual]		 Tubular Electrical Resistance Furnace
  • 常用最高温度1100℃（カンタル線）
  • 簡易雰囲気制御


[manual]		 Box Furnace
  • 最高温度1700℃ （MgSi2ヒーター）
  • 簡易雰囲気制御
  • ガラスの溶解に使用


[manual]		 Box Furnace
  • 最高温度1１00℃ （カンタル線）


[manual]		 赤外線ゴールドイメージ炉
  • 最高温度1600℃
  • 高速昇温，降温（但し，均一性は？）
  • 雰囲気制御


[manual]		 高温ホットプレート
  • 最高温度500℃？

Contact:
Prof. Minoru FUJII
Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe University

Rokkodai, Nada, Kobe 657-8501, Japan

fujii@eedept.kobe-u.ac.jp